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新闻资讯
靶材真空喷涂生产线的技术焦点及优势
2023-11-28
我公司专注于高温难熔融质料的真空喷涂技术,突破技术壁垒和难题,自主研发出具有世界先进水平的靶材真空喷涂生产线,我公司生产的靶材,经国家有色金属及电子质料剖析测试中心检测,各项指标均抵达和凌驾世界高端靶材的水平;经海内多家知名镀膜企业使用,反应良好。我公司靶材真空喷涂生产线和靶材产品具有如下技术焦点与立异点:一、技术焦点:1、 我公司接纳了自主研发的超高温、大功率等离子喷涂枪,更为有效的融熔了高温难熔金属、陶瓷粉末质料,焰流速更快,使靶材的晶界结合更致密、晶粒更细、孔隙更少、密度更高。
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什么是溅射靶材 ?
2023-11-28
?在溅射靶材的应用领域,半导体芯片对溅射靶材的金属质料纯度和内部微观结构设定了极其苛刻的标准,需要掌握生产历程中的要害技术,经过恒久实践才华生产出切合工艺要求的产品。因此,半导体芯片对溅射靶材的要求高,价格与半导体芯片相比,飞机显示器和太阳能电池对溅射靶材的纯度和技术要求略低,但随着靶材尺寸的增加,对溅射靶材的焊接结合率宁静整度提出了更高的要求。别的,溅射靶材需要装置在溅射机台内完成溅射历程,溅射机台专用性强,对溅射靶材的形状、尺寸和精度也设定了诸多限制。?
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物理气相沉积(PVD)种类、特点及应用介绍
2023-05-09
什么是物理气相沉积(PVD) ?物理气相沉积(Physicalvapordeposition,PVD)是一种在真空条件下接纳物理要领,将固体或液体质料外貌气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)历程,在基体外貌沉积具有某种特殊功效薄膜的技术。物理气相沉积技术不但可以沉积金属膜、合金膜?,还可以沉积化合物?、陶瓷?、半导体?、聚合物膜等,是具有广泛应用前景的新质料制造技术。接纳此技术制备的超硬薄膜不但具有超高硬度,且超薄、耐高温、
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常见的热处理看法
2022-08-30
1.正火:将钢材或钢件加热惠临界点Ac3或Acm以上的适当温度坚持一准时间后在空气中冷却,获得珠光体类组织的热处理工艺。2.退火:将亚共析钢工件加热至Ac3以上30—50℃,保温一段时间后,随炉缓慢冷却(或埋在砂中或石灰中冷却)至500℃以下在空气中冷却的热处理工艺。3.固溶热处理:将合金加热至高温单相区恒温坚持,使过剩相充分溶速冷却,以获得过饱和固溶体的热处理工艺。4.时效:合金经固溶热处理或冷塑性形变后,在室温安排或稍高于室温坚持时,其性能随时间而变革的现象。5.固溶处理:使合金中种种相充分
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热喷涂技术的研究现状与生长趋势
2022-08-09
摘?要:热喷涂技术由于具有极大优势而被广泛的应用在工程领域中。主要讲述热喷涂技术的研究现状、生长趋势,包括主火焰喷涂技术、等离子喷涂技术、超音速火焰喷涂技术、电弧喷涂技术、超音速电弧喷涂技术以及冷喷涂技术等,并介绍这些热喷涂技术的研究生长与应用。?要害词:热喷涂技术 ;研究进展 ;超音速火焰喷涂技术 ;等离子喷涂技术 ;冷喷涂技术热喷涂技术是一种将涂层质料(粉末或丝材)送入某种热源(电弧、燃烧火焰、等离子体等)中熔化,并利用高速气流将其喷射到基体质料外貌形成涂层的?工艺[
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