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放下“先进造程”执想，“成熟造程”引领半导体设备逆势狂欢，啪啪啪男女

21世纪经济报路记者 赵云帆

近日，半导体圈一则“传闻”引起市场人士宽泛关注。

该新闻称：“上海微电子28nm浸没式DUV光刻机实现首批交付，交付对象为国内晶圆厂，并且良率达到90%～95%。”

但经记者核实发现，该传闻早在今年3月至4月间便由个别博主在社交平台散布，并无靠得住信源。且该信息援引了大量今年3月SEMICON China展会上上海微电子的信息，且关键数据均与现实情况不符。

好比，所谓光刻机“90～95%”的良率，即就是指加工半导体的良率，亦因“远超当前台积电先进造程良率”显得脱离现实。

上述新闻出现后，部门媒体也对以上传言进行了辟谣，网传的28nm浸没式光刻机并未交付晶圆厂，设备仍在调试阶段，所谓“良率90%”的说法与现实情况存在较大误差等。

不外，在“光之牛视妆的带头下，二级市场光刻、刻蚀等半导体设备有关板块，依然消化了传言带来的感情提振，并在市场中走出独立行情。

其原因则与中国大量企业起头着力投入成熟造程市场有关。

5月18日，与上海微电子共同从属于上海电气集团的上海电气H股一度逆势涨14%，其涨势重现了今年3月SEMICON China前后上海微电子参展引发的火热行情。

独一无二，5月15日，刻蚀设备商中微公司一度靠近“20CM」厍停。有新闻称，中微公司上调2026年订单增速指引（从30%上调至50%），其给出的理由为存储芯片、国产先进造程领域的旺盛需要，以及国内晶圆厂扩产带来的增量需要。

从A股风雅历来看，Wind半导体设备指数月线已经陆续实现两位数涨幅，为去年8月以来初次。但与其他“沾光”企业相比，国产半导体设备的进展重要萦绕成熟造程发展，且呈产研两旺的局面。

近日，中芯国际首创人张汝京呼吁，中国半导体产业不应对高端造程“盲目执着”，而应选择主攻成熟造程市场。

他指出，以产品数量推算，3nm、2nm等先进造程在全球市场占比不及20%，而超过80%的需要来自成熟造程与特色工艺。在汽车电子、工业节造、物联网等领域，28nm及以上成熟工艺不仅齐全够用，且具备高良率和成本优势。

此前，英伟达CEO黄仁勋在做客幼我播客节目时也提出了类似概想：市场主流半导体为成熟造程半导体，中国在这方面占有巨大的潜力和能力。

凭据中商产业钻研院数据，成熟造程光刻机市场在全球半导体设备中占据重要份额。2025年全球光刻机市场规模约为350亿美元，预计2026年将增长至392亿美元。

而由于欧洲出格是荷兰对中国的半导体设备出口规模持续降落，我国半导体设备供给商起头逐步崛起，尝试补齐短板。

4月，国际半导体产业协会（SEMI）颁布汇报称，2026年一季度，全球半导体设备销售额达280亿美元，其中中国内地采购额占比升至35%，创汗青新高。

从需要端来看，SEMI数据显示2026年一季度中国内地半导体设备采购额约98亿美元，同比增长25%，重要来自中芯国际、华虹半导体、长鑫存储等晶圆厂的扩产需要。其中，刻蚀、薄膜沉积、洗濯设备占比最高。

从设备结构看，成熟造程光刻机（重要蕴含KrF、i-line及部门ArF设备）需要不变，尤其在功率半导体、仿照芯片、车规芯片、CIS、MEMS和化合物半导体等领域维持较永性命周期。

从市场结构来看，全球光刻机高端市场被ASML垄断，EUV、DUV光源难以突破。但是，全球成熟造程光刻机行业亦有尼康、佳能占据中低端市场，中国成熟造程半导体设备占比尚无法与以上日本厂商等量齐观，市场得救仍是一大可行方向。

据悉，上海微电子主推产品为90nm成熟造程光刻机，如SSX/SSA600系列步进扫描投影光刻机。截至2025年，其SSX600系列步进扫描投影光刻机（支持90nm及以下造程）出货量占国内光刻机市场份额超过80%。

但与此同时，上海微电子的绝对销售额相比美日企业仍有差距。

中信证券援引SEMI数据指出，2024年国内光刻机市场规模超400亿元，但国产化率仅约2.5%。不论是成熟造程还是高端造程，市场占有率均有很大提升空间。

从技术演进来看，光刻机的发展始终陪伴着关键的光源突破，其最早选取248nm（KrF）和193nm（ArF）等深紫表（DUV）光源，随后逐步推动至当前最先进的13.5nm极紫表（EUV）光源。每一次光源波长的缩短，都显著提升了光刻机的分辨率与精度，推动工艺节点从微米级迈入纳米级。

而浸没式光刻技术的引入成为重要转折，其通过在透镜与晶圆之间注入液体，将193nm光刻的数值孔径从0.93提高至1.35，使ArF光刻得以延长至7nm节点。

这一突破也让ASML在与尼康的竞争中获得关键优势。而随后的EUV光刻技术的贸易化，则标志取ASML奠定了全球顶尖光刻机厂商的职位。

从技术演变的角度来看，成熟造程“村落包抄城视妆的战术，或许已经成为半导体设备行业演进的底层逻辑，这一蹊径本就难以绕开。

本钱市场对光刻机板块的高度关注，源于政策、确定性的市场需要与巨大代替空间形成的强烈共振。

政策层面，国度集成电路产业投资基金三期注册本钱达3440亿元，重点投向蕴含光刻机在内的关键产业链环节。此前，上海、北京等地也出台专项政策，指标是在将来将光刻机零部件国产化率提升至70%以上。

从产业散布来看，光刻机产业链有关公司，从整机厂到上游的光学部件、激光光源、双工件台、光刻胶等企业，近期均成为资金布局的焦点。A股市场光刻机概想板块在2025年屡次出现整体性强势上涨，有关个股频现涨停。

机构普遍以为，在AI需要拉动成熟与先进造程双线扩产、政策强力支持以及国产技术从“0到1”迈向“1到N”量产的关键阶段，光刻机产业链正迎来新的发展契机。而若是选对方向，基于切合现实情况的等待，中国半导体设备行业可能会在不远的将来，迎来属于自己的“寒武纪时刻”。